ASML โชว์ประสิทธิภาพของเครื่องผลิตชิปตระกูล EUV High-NA ว่าสามารถสร้างลายวงจรระดับ 8nm ได้สำเร็จ หลังจากเมื่อเดือนเมษายนเคยสาธิตลายวงจรระดับ 10nm ด้วยเครื่อง High NA เช่นกัน

เครื่องผลิตชิป EUV เดิมนั้นสามารถวาดลายวงจรที่ระดับเล็กสุด (critical dimension - CD) ได้ที่ระดับ 13.5nm หากเครื่อง High NA สามารถทำได้ที่ 8nm โดยที่ยังมีความเสถียรพอใช้งานผลิตจริง ก็จะสร้างความได้เปรียบให้กับผู้ผลิตที่มีเครื่อง High-NA ในมืออย่างมาก

ตัวเลขชื่อเทคโนโลยีการผลิตชิปที่เรามักได้ยินกันว่า 5nm หรือ 3nm นั้นแยกออกจากขนาดลายวงจรจริงๆ บนแผ่นซิลิกอนมาหลายปีแล้ว เช่นทุกวันนี้เทคโนโลยี 3nm นั้นอาจจะมีระยะห่างระหว่างเส้นวงจรที่ 24nm โดยโรงงานผู้ผลิตชิปมักตั้งชื่อสายการผลิตใหม่เมื่อประสิทธิภาพชิปที่ได้ต่างจากของเดิมเพียงพอ ถือเป็นการตัดรุ่นสินค้า และชื่อเทคโนโลยีที่ฟังดูคล้ายกันจากแต่ละบริษัทก็อาจจะมีขนาดจริงบนชิปต่างกันมาก

นอกจากความสำเร็จในการย่อขนาดลายวงจรแล้ว ASML ยังนำเสนอแผนการหลังปี 2033 ว่ามีแนวทางพัฒนาเทคโนโลยี Hyper-NA ต่อไป แต่สายการผลิตเครื่อง EUV ดั้งเดิมก็ยังมีแผนพัฒนาต่อไปเรื่อยๆ

ที่มา - Tom's Hardware