By: lew 
on 30 December 2022 - 15:08
Tags:
Topics:
อินเทลประกาศความสำเร็จในการเดินหน้าเลเซอร์เพื่อเตรียมผลิตชิปด้วยกระบวนการแบบ EUV หลังจากติดตั้งเครื่องจักรจาก ASML สำเร็จ ถ้าทุกอย่างยังเดินหน้าตามกำหนดก็จะเดินสายการผลิต Intel 4 ได้ในปี 2023 ที่โรงงาน Fab 34 ในไอร์แลนด์
ลำแสงเลเซอร์พลังงาน 25kW ยิงแสงจากห้องผลิตแสงใต้โรงงานผลิตชิปที่เป็นห้อง cleanroom ที่ความถี่ 50,000 รอบต่อวินาที จากนั้นแสงเลเซอร์จะส่งเข้าห้อง cleanroom แล้วยิงไปยังหยดละออง (droplet) ขนาด ของดีบุกสองครั้ง ครั้งแรกทำให้ละอองกลายเป็นแผ่นกลม ครั้งที่สองยิงด้วยพลังงานสูงให้ปล่อยพลาสมา EUV ออกมาแล้วสะท้อนลงแผ่นเวเฟอร์ในที่สุด
อินเทลกำลังเร่งพัฒนาเทคโนโลยีการผลิต ตามแผนจะมีการเปิดสายการผลิตใหม่ 5 เทคโนโลยีภายใน 4 ปี มีกำหนดกลับมาเป็นผู้นำด้านเทคโนโลยีการผลิตภายในปี 2025
ที่มา - Intel
Get latest news from Blognone
Follow @twitterapi
Comments
50,000 รอบต่อวินาที > 50kHz
ถ้าใช้คำนั้นผมเกรงคนจะเข้าใจเป็นความถี่ของคลื่นที่ยิงนะครับ (ขนาดคำไทยที่ผมเขียนผมว่าอ่านแล้วยังสับสนเลย)
อันนี้คือ ยิงเป็นจำนวน 50,000 ครั้ง ต่อ 1 วินาที ให้โดนเม็ดละอองดีบุก 50,000 เม็ดต่อวินาที ด้วยแสงความถี่/ความยาวคลื่นเท่าไหร่ผมจำไม่ได้แล้ว
ความยาวคลื่นแสง 13.5 nm ครับ
♥ ขอบคุณครับ
ใน context ข่าวก็ใช้ 50 kHz ได้หรือเปล่านะครับ เพราะเลเซอร์คือ โฟตอน
โฟตอน 50 kHz ก็คือ โฟตแน 50000 ก้อนต่อนาที ก็ชนพอดีกับ เม็ดละอองดีบุก 50,000 เม็ดต่อวินาที ครับ
IMHO
ใช้ได้ครับ แค่ผมว่ามันน่าจะพาให้สับสน 😅
กับผมว่ามันไม่ใช่โฟตอน 50,000 ก้อนต่อนาทีนะ
ไม่น่าใช่ Photon 50000 ก้อน/s นะครับ เพราะ photon 13.5 nm หนึ่งตัว มีพลังงานน้อยมาก ไม่น่าทำอะไรกับเม็ดละอองดีบุกได้ด้วยซ้ำ. 50000 times / s น่าจะหมายถึงจำนวน pulse มากกว่า
หยดละออง (droplet) ขนาด ของดีบุกสองครั้ง ?
บล็อกส่วนตัวที่อัพเดตตามอารมณ์และความขยัน :P
อาจจะกำกวม แต่คำอธิบายต่อนั้น พอให้เข้าใจได้อยู่ครับ แต่ตรง ขนาด น่าจะเอาออกหรือย้ายตำแหน่ง