IBM ออกมาประกาศความสำเร็จในการพัฒนากระบวนการผลิตชิประดับ 7 นาโนเมตร เล็กลงจากกระบวนการผลิตในปัจจุบันที่อยู่ระดับ 10-14 นาโนเมตร

เทคโนโลยีระดับ 7 นาโนเมตรยังอยู่ในห้องทดลองและยังไม่สามารถนำมาใช้งานจริงได้เร็วนัก การลดขนาดกระบวนการผลิตรอบนี้มีอุปสรรคเยอะพอสมควร เพราะขนาดเริ่มเล็กลงจนใกล้ข้อจำกัดเชิงกายภาพ ทำให้ควบคุมการวิ่งของอิเล็กตรอนได้ยากขึ้น ในแง่การผลิตจึงต้องหาเทคนิคใหม่ๆ เข้ามาช่วยแก้ปัญหานี้

เทคนิคที่ IBM ใช้คือเปลี่ยนวัสดุมาเป็น silicon-germanium (SiGe) แทนการใช้ซิลิคอนเพียงอย่างเดียว และพัฒนาเทคนิคการวางขาของทรานซิสเตอร์ให้เรียงตัวกันได้แน่นกว่าเดิม

IBM ไม่ได้ระบุช่วงเวลาที่เราจะได้เห็นชิประดับ 7 นาโนเมตรวางขาย แต่ The Register อ้างความเห็นจากผู้เชี่ยวชาญในวงการว่า "ปี 2020 เป็นอย่างเร็ว"

ที่มา - The Register